紫外臭氧清洗機

簡要描述：應用范圍：PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機，其加熱溫度可達150℃。此款設備可用于清洗各種基片，為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠，改善表面潤濕性，清洗SEM＆TEM，紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段，特別適合清除一些有機化合物，紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵?/p>

產(chǎn)品型號： PCE-22-LD

所屬分類：鈣鈦礦太陽能電池制備

更新時間：2024-11-06

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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詳情介紹

PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機，其加熱溫度可達150℃。此款設備可用于清洗各種基片，為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠，改善表面潤濕性，清洗SEM＆TEM，紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段，特別適合清除一些有機化合物，紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵猓?54nm可以破壞化合物中的鍵（特別是碳碳鍵）。所以這兩種波長的光組合可有效的清除有機化合物。

功能特點

僅室內(nèi)使用；海拔高度5500英尺以內(nèi)；
溫度范圍：5-40℃；
最大相對濕度80%，最高30.5℃，40℃線性降至50%相對濕度；
主電源波動不超過額定電壓的10%；
污染等級2；臭氧水平（環(huán)境）測量＜45ppb；
可去除分子級別的污染物；
可清洗MEMS器件；
可清洗各種基片，如si,Ge,GaAs和各種氧化物單晶基片。

紫外臭氧清洗機

技術參數(shù)
電源	單相AC220V±10%，頻率：50Hz/60Hz，功率約1KW
工作環(huán)境	室內(nèi)使用，溫度：5～40℃，最大相對濕度80%，海拔5500英尺以內(nèi)
腔體&樣品臺	不銹鋼殼體抽屜式樣品臺，以便放樣取樣基片臺尺寸：310mm*320mm 臭氧通風裝置安裝在腔體上樣品臺與紫外燈的距離：20mm-40mm范圍內(nèi)可調(diào) 樣品臺可以加熱，最高溫度可達150℃ 可設置8段升降溫程序，控溫精度為±1℃ 照射設定時間：1min-9999min
觸摸屏＆加熱	4.5英寸觸摸屏控制加熱和清洗功能點擊觸摸屏上的“溫控程序"即可進入程序設置界面，內(nèi)置溫控儀表采用PID方式調(diào)節(jié)，可設置30段升溫程序，設備只顯示8段升溫程序，可根據(jù)實際要求進行添加設備加熱前需進行預熱處理
排氣口	直徑為80mm的排氣口安裝在儀器后端將鋁波紋管與排氣口連接，將臭氧排出到實驗室外橡膠管長度8米
紫外燈	UV燈管：功率：210W 發(fā)出光的波長：254nm和185nm 照射區(qū)域：200*200mm 可以清潔直徑最大為12英寸×35mm的晶體晶片
外形尺寸	約L550W520H335mm
重量	約30kg