● 真空腔體為直徑6英寸的石英腔體，便于清潔和放入樣品
● 安裝有一個(gè)2英寸的樣品臺(tái)，并且樣品臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，使所制薄膜更加均勻
● 采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，最高溫度可達(dá)到1500℃，并且配用專用氧化鋁舟，可裝入樣品
● 精確控溫：可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃
● 氣體流量端口和閥門(mén)內(nèi)置用于腔室凈化和CVD可能性

● 溫度：最高1500℃ （1200℃以上＜1h）
● 建議升溫速率：≤20℃/ min （需根據(jù)工藝調(diào)整）
● 熱偶：B型或者S型熱偶
● 電源：AC220V，50Hz   最大6KW

● 采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，并且配有專用的氧化鋁坩堝，熱電偶安裝在坩堝底部，以便于溫度測(cè)量和控制
● 采用S型熱電偶（工作溫度為200℃-1500℃）
● 可選B型熱電偶（工作溫度為1200℃-1700℃）
● 安裝有一個(gè)數(shù)顯的溫度控制器：可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC
● 溫度控制器的時(shí)間設(shè)置以秒為單位，建議將升溫/降溫速率限制在1200oC以下0.3oC/s（20oC/ min），在1200 - 1500oC限制到0.15oC/s（10oC/min）
● 儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝
 

● 儀器頂部安裝有樣品臺(tái)，直徑為Φ50mm，并設(shè)置有擋板，方便控制蒸發(fā)鍍膜時(shí)間
● 樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，增加鍍膜均勻性
● 樣品臺(tái)和蒸發(fā)源之間的距離可以調(diào)節(jié)

● 進(jìn)氣接口為1/4NPS，可向真空腔體中通入惰性氣體，對(duì)腔體進(jìn)行清洗，也可通入反應(yīng)氣體，進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜
● 進(jìn)氣口安裝有一針閥，用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量
● 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀-GSL-1700X-EV4
● 儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝，并用戶可額外選購(gòu)鎢絲籃及氧化鋁坩堝

可選購(gòu)一數(shù)顯防腐真空計(jì)，測(cè)量范圍為：3.8x10-5-1125Torr

● 可在本公司選購(gòu)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?
● LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
● 同時(shí)可選購(gòu)反射光譜薄膜測(cè)厚儀--TFMS-LD

● 設(shè)備上有一KF25接口用于連接真空泵
● 采用渦旋分子泵真空可達(dá)1.0E-5Torr，極限真空度可達(dá)4.0E-6Torr
● 雙極旋片真空泵或干泵，可使儀器真空腔體的真空度達(dá)到10-2Torr
● 真空度達(dá)到10-2torr時(shí)，可蒸發(fā)一些貴金屬，參考材料金和鉑，也可蒸發(fā)一些有機(jī)材料，可選購(gòu)數(shù)顯防腐真空計(jì)PCG-554(測(cè)量范圍3.8x10-5 to 1125 Torr.)
● 高真空度可達(dá)1.0E-5Torr（采用渦旋分子泵），此時(shí)可蒸發(fā)對(duì)氧敏感的材料，參考材料Al. Mg, Li，分子泵上帶有復(fù)合真空計(jì)（最高可測(cè)量真空度為1.0E-7Torr）
● 可在本公司選購(gòu)各種真空泵和真空計(jì)

● 可在本公司選購(gòu)各種真空泵和真空計(jì)

490mm*330mm*560mm

● 為了獲得高真空度，可采用以下做法
（1）使用前要檢查密封圈和法蘭上是否有異物或劃痕，并用酒精擦洗
（2）抽真空時(shí)，用外部加熱裝置將腔體烘烤到200℃，氧化鋁坩堝預(yù)加熱到500℃，保持2小時(shí)
● 此款蒸鍍儀可以放入到手套箱里操作，用于蒸鍍一些在常溫下對(duì)氧氣敏感的材料，比如金屬Li等，可在本公司選購(gòu)開(kāi)啟式手套箱VGB-6

所有電器元件（>24V）都通過(guò)UL?/?MET?/?CSA認(rèn)證CE認(rèn)證/
若客戶出認(rèn)證費(fèi)用，本公司保證單臺(tái)設(shè)備通過(guò)德國(guó)TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證